產(chǎn)品資料
離子鍍膜設備清潔排氣無油干式渦旋真空泵
產(chǎn)品名稱: 離子鍍膜設備清潔排氣無油干式渦旋真空泵
產(chǎn)品型號: ISP-500C
產(chǎn)品特點: 離子鍍膜設備清潔排氣無油干式渦旋真空泵日本 ANEST IWATA 巖田 ISP-500C 是一款用于離子鍍膜等潔凈工藝的無油干式渦旋真空泵，主要特點如下：抽速與真空度50 Hz 時 500 L/min（30 m³/h），60 Hz 時 600 L/min（36 m³/h）極限壓力 ≤ 1 Pa 多電壓電機單相版本：100 V/115 V/200 V/230 V，50/60 Hz 可選
離子鍍膜設備清潔排氣無油干式渦旋真空泵 的詳細介紹
離子鍍膜設備清潔排氣無油干式渦旋真空泵
離子鍍膜設備清潔排氣無油干式渦旋真空泵
日本 ANEST IWATA 巖田 ISP-500C 是一款用于離子鍍膜等潔凈工藝的無油干式渦旋真空泵，主要特點如下：
- 抽速與真空度
- 50 Hz 時 500 L/min（30 m3/h），60 Hz 時 600 L/min（36 m3/h）
- 極限壓力 ≤ 1 Pa
- 多電壓電機
單相版本：100 V/115 V/200 V/230 V，50/60 Hz 可選；三相版本：200-230 V/380-480 V，50/60 Hz。出廠默認 200 V 級接線 - 接口與尺寸
吸氣口 NW40，排氣口 NW25；泵體 372 × 328 × 397 mm，重約 25 kg - 運行特性
空冷、無潤滑油、無冷卻水；噪音 ≤ 70 dB(A)（帶空氣沖洗時） - 離子鍍膜適用性
低振動、清潔排氣、防泄漏規(guī)格，可直接作為離子鍍膜設備的前級或粗抽泵，也可為渦輪分子泵提供無油 backing
日本 ANEST IWATA 巖田 ISP-500C 是一款用于離子鍍膜等潔凈工藝的無油干式渦旋真空泵，主要特點如下：
- 抽速與真空度
- 50 Hz 時 500 L/min（30 m3/h），60 Hz 時 600 L/min（36 m3/h）
- 極限壓力 ≤ 1 Pa
- 多電壓電機
單相版本：100 V/115 V/200 V/230 V，50/60 Hz 可選；三相版本：200-230 V/380-480 V，50/60 Hz。出廠默認 200 V 級接線 - 接口與尺寸
吸氣口 NW40，排氣口 NW25；泵體 372 × 328 × 397 mm，重約 25 kg - 運行特性
空冷、無潤滑油、無冷卻水；噪音 ≤ 70 dB(A)（帶空氣沖洗時） - 離子鍍膜適用性
低振動、清潔排氣、防泄漏規(guī)格，可直接作為離子鍍膜設備的前級或粗抽泵，也可為渦輪分子泵提供無油 backing
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