半導體表面處理工藝高純度氣體凈化器

半導體表面處理工藝高純度氣體凈化器

PF系列氣體凈化器的特點

• 高純度氣體凈化：能夠有效去除氣體中的雜質，如水分（H2O）、氧氣（O2）、二氧化碳（CO2）、一氧化碳（CO）、烴類（NMHCs）等，確保氣體純度達到半導體制造所需的高標準。
• 超高壓設計：適用于超高壓環境，能夠滿足半導體制造過程中對氣體壓力的嚴格要求。
• 點式設計：這種設計可能意味著凈化器具有小巧的體積和靈活的安裝方式，便于集成到半導體制造設備中，適合空間受限的應用場景。
• 表面處理功能：可能具備對氣體進行表面處理的功能，以去除氣體中的顆粒物和其他雜質，防止污染半導體表面，確保半導體制造中的高質量輸出。

應用場景

• 半導體制造：在半導體制造過程中，用于凈化各種工藝氣體，如氮氣、氫氣等，確保氣體純度，提高產品質量和生產效率。
• 表面處理：用于對半導體表面進行處理，去除表面雜質，提高表面質量和性能。

相關產品對比

• Nupure氣體凈化器：Nupure品牌的氣體凈化器也廣泛應用于半導體行業，其ELIMIN/ATOR系列能夠將惰性氣體中的H2O、O2、CO、CO2、H2和NMHCs純化到小于1ppb的水

PF系列氣體凈化器的特點

• 高純度氣體凈化：能夠有效去除氣體中的雜質，如水分（H2O）、氧氣（O2）、二氧化碳（CO2）、一氧化碳（CO）、烴類（NMHCs）等，確保氣體純度達到半導體制造所需的高標準。
• 超高壓設計：適用于超高壓環境，能夠滿足半導體制造過程中對氣體壓力的嚴格要求。
• 點式設計：這種設計可能意味著凈化器具有小巧的體積和靈活的安裝方式，便于集成到半導體制造設備中，適合空間受限的應用場景。
• 表面處理功能：可能具備對氣體進行表面處理的功能，以去除氣體中的顆粒物和其他雜質，防止污染半導體表面，確保半導體制造中的高質量輸出

  。

應用場景

• 半導體制造：在半導體制造過程中，用于凈化各種工藝氣體，如氮氣、氫氣等，確保氣體純度，提高產品質量和生產效率

  。
• 表面處理：用于對半導體表面進行處理，去除表面雜質，提高表面質量和性能

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相關產品對比

• Nupure氣體凈化器：Nupure品牌的氣體凈化器也廣泛應用于半導體行業，其ELIMIN/ATOR系列能夠將惰性氣體中的H2O、O2、CO、CO2、H2和NMHCs純化到小于1ppb的水