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產品資料
首頁 >>> 產品中心 >>> 研磨材料 >>> 氧化鋁 >>> TM-DAR99.99純度半導體領域用超細氧化鋁粉

99.99純度半導體領域用超細氧化鋁粉

產品名稱: 99.99純度半導體領域用超細氧化鋁粉
產品型號: TM-DAR
產品特點: 99.99純度半導體領域用超細氧化鋁粉
高純度
純度:氧化鋁含量≥99.99%,部分型號如TM-DAR純度可達99.995%以上。雜質含量極低,如Si、Fe、Na等雜質含量均在ppm級別,這使得材料在化學穩定性、電性能等方面表現出色。

99.99純度半導體領域用超細氧化鋁粉 的詳細介紹

99.99純度半導體領域用超細氧化鋁粉

99.99純度半導體領域用超細氧化鋁粉

高純度

  • 純度:氧化鋁含量≥99.99%,部分型號如TM-DAR純度可達99.995%以上
    。雜質含量極低,如Si、Fe、Na等雜質含量均在ppm級別,這使得材料在化學穩定性、電性能等方面表現出色
  • 應用優勢:高純度可減少晶界雜質偏析,提高陶瓷的介電性能和光學透過率
    ,適用于對純度要求的應用領域,如半導體制造夾具、電子陶瓷等。

粒徑分布

  • 超微細粒徑:一次粒子徑可達0.10μm,部分型號如TM-5D粒徑為0.20μm。粒徑分布可控且均勻,D90/D10<3
  • 性能提升:超微細粒徑和均勻的粒徑分布有助于提高燒結活性,促進低溫致密化
    ,同時減少成型與燒結過程中的應力集中
    ,提升陶瓷的機械性能

低溫燒結特性

  • 低溫燒結:TM-D系列可在1250-1300℃實現致密化燒結
    ,燒結密度可達理論密度的98%以上
  • 工藝優勢:相比傳統氧化鋁的高燒結溫度(通常>1600℃),大明化學的氧化鋁粉體燒結溫度大幅降低
    ,能耗減少30%-40%
    。此外,低溫燒結還能減少晶粒異常生長
    ,提高燒結體的致密程度

優異的成型性能

  • 表面修飾技術:通過表面修飾技術防止顆粒團聚,振實密度最高可達1.0g/cm3
    ,注射成型時填充率提升15%以上。
  • 成形密度高:成形密度可達2.3g/cm3(單軸壓制98MPa),減少燒結收縮率

優良的燒結體性能

  • 高強度和高硬度:燒結體具有高強度、高硬度、耐磨性及耐腐蝕性
    ,適用于制造各種精密陶瓷部件
  • 光學性能:部分型號如TM-DA和TM-DAR可制備透光率>85%@600nm的透明陶瓷
    ,適用于光學器件

廣泛的應用領域

  • 精密陶瓷:適用于制造切削工具、軸承、牙齒等
  • 電子材料:用于IC基板、傳感器等電子元件
  • 光學材料:可用于制造透明陶瓷、紅寶石、YAG激光晶體等
  • 其他材料:還適用于研磨材料、合成尖晶石、催化劑載體等


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