在材料鍍膜、刻蝕、真空實(shí)驗(yàn)等科研與工業(yè)場景，穩(wěn)定潔凈的超高真空環(huán)境是實(shí)驗(yàn)成功的基礎(chǔ)。日本 ARIOS 推出的 UHVPS 超高真空排氣裝置，依托 20 余年超高真空設(shè)備制造技術(shù)，以高真空度、易維護(hù)、高性價比的優(yōu)勢，成為真空實(shí)驗(yàn)的核心配套設(shè)備。

裝置從材料選擇、焊接、清洗到表面研磨處理全流程嚴(yán)控工藝，腔體采用 SUS304 不銹鋼并做鏡面電解研磨處理，漏率低至 6.7×10?11Pa?m3/sec，空載狀態(tài)下可達(dá) 1×10??Pa 以下高真空，為鍍膜、刻蝕等實(shí)驗(yàn)提供無雜質(zhì)污染的潔凈環(huán)境。主腔體標(biāo)配樣品更換艙門，可自由組合等離子體源、加熱機(jī)構(gòu)、蒸鍍源、氣體供應(yīng)系統(tǒng)等組件，適配各類真空實(shí)驗(yàn)需求。

設(shè)備采用緊湊型腔體與極簡結(jié)構(gòu)設(shè)計，本體僅約 60kg，尺寸 500mm×600mm×1100mm，搭配帶腳輪與減震器的移動臺架，部署靈活；結(jié)構(gòu)簡單易拆解，日常維護(hù)輕松便捷，大幅降低運(yùn)維成本。以最小限度配置打造手動型設(shè)備，無需復(fù)雜自動化系統(tǒng)，以低成本即可引入，適配預(yù)算有限的實(shí)驗(yàn)室與研發(fā)場景，同時支持根據(jù)客戶要求定制化設(shè)計制造，滿足個性化實(shí)驗(yàn)場景。

裝置搭載渦輪分子泵與羅茨泵組成的排氣系統(tǒng)，搭配冷陰極真空計實(shí)時監(jiān)測真空度；電源采用單相 200V/15A，需 0.4~0.6MPa 壓縮空氣驅(qū)動；腔體采用 SUS304 O 型圈密封，保障真空穩(wěn)定性，客戶可按需選擇不同品牌泵組，靈活適配實(shí)驗(yàn)需求。

該設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校科研實(shí)驗(yàn)室、材料研發(fā)機(jī)構(gòu)、半導(dǎo)體企業(yè)，可作為 MBE 裝置、分子線源等設(shè)備的配套真空系統(tǒng)，也可獨(dú)立用于真空鍍膜、表面刻蝕、材料真空處理等各類實(shí)驗(yàn)，是真空科研領(lǐng)域的通用型核心設(shè)備。