在材料表面鍍膜、等離子體物理研究等科研場景，定制化、高真空、多功能的等離子體實驗裝置是核心研發(fā)工具。日本 ARIOS（アリオス）推出的 MiPC-1000 微波等離子體實驗裝置，以全自主設計、靈活定制、高參數(shù)性能的優(yōu)勢，成為科研級等離子體實驗的優(yōu)選方案。

該裝置采用石英導波管正交式等離子體源，搭載 0~1000W、2.45GHz 微波電源，可產(chǎn)生穩(wěn)定的微波等離子體，適配 DLC 膜制備、碳納米管生長、等離子體殺菌、真空紫外照射等多種等離子體實驗需求。設備支持基板移動機構，可任意設定基板與等離子體的位置，適配多樣化工藝；等離子體可直接加熱基板，制備金剛石薄膜無需額外加熱器，也可通過遠程等離子體方式避免基板升溫，滿足不同實驗需求。

裝置真空性能優(yōu)異，搭配渦輪分子泵可實現(xiàn) 5.0×10??Pa 以下的高真空，漏率低至 1.0×10??Pa?m3/sec，支持 H?、Ne、N?、Ar、O?等多種工藝氣體。基板最高加熱溫度達 1000℃，行程 235mm，可精準調(diào)控實驗條件；排氣系統(tǒng)標配渦輪分子泵，可選配羅茨泵，滿足不同真空需求。設備自帶推車與減震臺，移動部署便捷，操作面板集成化，直觀管控各項實驗參數(shù)。

該裝置廣泛適用于高校科研實驗室、材料研發(fā)機構，可用于新型材料研發(fā)、等離子體物理基礎研究、表面改性工藝優(yōu)化等場景，覆蓋半導體、新能源、材料科學等多個行業(yè)，是一款高定制化、高性能的科研級微波等離子體實驗裝置。