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硬涂層等膜厚測量設備-反射光譜膜厚儀介紹
硬涂層等膜厚測量設備-反射光譜膜厚儀介紹
[原理]
當樣品被光照射時，它顯示出取決于膜厚度的*光譜。在薄膜表面反射的光與穿過薄膜并在基板表面反射的光相互干涉。當光的相位匹配時，強度增加，當光相移時，強度降低。反射計是一種通過分析該光譜來測量薄膜厚度的方法。
[特點]
? 與 SEM 和觸針式輪廓儀不同，可以非接觸式測量。
? 比橢偏儀更便宜、更容易使用。
[規格]
| 模型 | AFW-100W |
|---|---|
| 利用 | 一般膜厚 |
| 設備配置 | 本體、測量臺、2支光纖（1.5m）、PC |
| 測量波長范圍 | 380-1050nm |
| 膜厚測量范圍 | 100nm～1μm（曲線擬合法） |
| 1 μm-60 μm (FFT) | |
| 測量再現性 | 0.2%-1%（視膠片質量而定） |
| 測量光斑直徑 | 約7mm |
| 光源 | 12V-50W 鹵素 |
| 測量理論 | 曲線擬合法/FFT法 |
| 外形尺寸（mm） | 測量臺：W150 x D150 x H115 |
| 機身：W230 x D230 x H135 | |
| 近似重量 | 5.5kg * 不包括電腦 |
| 效用 | AC100V 50 / 60Hz |
| 轟天猛將 | 鹵素燈 |
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